韩联社报道，一名SK海力士前员工盗印6000页半导体机密，作为CV投递给华为子公司海思（HiSilicon）等中国对手，首尔高等法院9日二审宣判，维持一审判囚18个月的决定。
案情指，被告2022年2月获华为旗下海思科技等华企挖角，于是违反公司保安规定，先后打印共6000页包括CIS（CMOS影像感测器）技术等的商业机密，并于同年3月，将部份机密资料加入履历表，投交给海思，因该次跳槽暂缓，被告在同年8月，又把涉及上述部份机密的履历表，投给另一家海力士的中国竞争对手。
首尔高等法院二审认定金姓被告，违反《产业技术保护法》《防止不正当竞争和保护商业秘密》及背信等罪，维持一审判囚18个月的决定。
