韓聯社報道，一名SK海力士前員工盜印6000頁半導體機密，作為CV投遞給華為子公司海思（HiSilicon）等中國對手，首爾高等法院9日二審宣判，維持一審判囚18個月的決定。
案情指，被告2022年2月獲華為旗下海思科技等華企挖角，於是違反公司保安規定，先後打印共6000頁包括CIS（CMOS影像感測器）技術等的商業機密，並於同年3月，將部份機密資料加入履歷表，投交給海思，因該次跳槽暫緩，被告在同年8月，又把涉及上述部份機密的履歷表，投給另一家海力士的中國競爭對手。
首爾高等法院二審認定金姓被告，違反《產業技術保護法》《防止不正當競爭和保護商業秘密》及背信等罪，維持一審判囚18個月的決定。
