美媒：中国今年能生产约五台DUV光刻机 交付长鑫等晶片制造商

据美国科技媒体The Information报道，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机（DUV），预计将在今年内交付给国内主要晶片制造商，包括中芯国际、华虹半导体和长鑫存储。

报道称，这一突破最终可能对半导体微影设备巨头荷兰阿斯麦在中国市场的地位构成挑战，但国产设备目前在性能和可靠性方面仍有差距，在实现量产前还需进一步测试。

据悉国产DUV的初期产量将较为有限，预计今年生产约5台DUV光刻机，2027年产量约为20台。